Hoće li tantalum termowell oksidizirati na visokim temperaturama

Iako se tantalum termowell široko koristi u mnogim poljima zbog izvrsnih performansi, njegova oksidacija na visokim temperaturama utječe mnogi faktori.
Tantalum ima tačku topljenja do 2996 stepeni i ima dobru hemijsku stabilnost. Kada se temperatura nalazi u relativno niskom temperaturnom opsegu, kao što je 200 stupnjeva - 500 diplomira, tantal će reagirati sa kisikom u zraku i polako formira gust tantal oksidni film na površini. Ovaj film ima određeni zaštitni učinak, koji može spriječiti da kiseonik prodire dalje i ograniči unutrašnji tantal da se i dalje oksidira. Tantalum termowell i dalje može raditi sloj.
Međutim, kada temperatura prelazi 800 stepeni, stopa oksidacije značajno se ubrzava. Rast tantalskog oksidnog filma postaje nestabilan i više ne može učinkovito blokirati kisik. Interni tantal i dalje je oksidiran, što ne mijenja samo materijalnu strukturu i ne uzrokuje mehanička svojstva da se pogoršaju, poput tvrdoće i žilavosti. To može utjecati i na tačnost mjerenja temperature Tantalum Termowell i smanjiti njegov radni vijek.
Ako se nalazi u okruženju bez kisika, poput vakuumnog okruženja, tantalski termowell teško će oksidirati čak i na temperaturama iznad 800 stepeni zbog nedostatka kisika, oksidante. Pored toga, kroz zaštitne mjere kao što su površinske premaze, na tantalumskoj površini može se formirati dodatna barijera kako bi se poboljšala njegova antioksidacijska sposobnost na visokim temperaturama i smanjiti štetne efekte oksidacije. Ukratko, da li tantalum Termowell oksidizira visoke temperature ovisi o temperaturi, sadržaju kisika i zaštitnim mjerama.